Tasas de difusión y de deposición en un modelo de epitaxia coloidal

  • Diego Luis González
  • Manuel Camargo
  • Julián Sanchez

Resumen

Se estudian las propiedades dinámicas de un modelo de suspensión coloidal bidimensional cuyas partículas son depositadas lentamente sobre un sustrato
unidimensional bajo la acción de un campo externo. Una vez que las partículas son depositadas en el sustrato pueden difundirse lateralmente sobre este último. Usando un modelo analítico basado en las ecuaciones de Langevin y de Fokker-Plank se estudia la dinámica de una partícula en la suspensión y sobre el sustrato. En particular, se calculanla tasa de deposición promedio sobre el sustrato, F, así como también la constante de difusión de las partículas sobre el sustrato, D. Los resultados del modelo analítico propuesto presentan un buen acuerdo con los encontrados usando simulaciones numéricas
basadas en dinámica molecular. Este modelo sencillo permite explorar la posibilidad de usar coloides para la formación de estructuras mediante la técnica de crecimiento epitaxial, la cual es relevante en distintos campos de aplicación.

Publicado
2018-04-04
Como citar
GONZÁLEZ, Diego Luis; CAMARGO, Manuel; SANCHEZ, Julián. Tasas de difusión y de deposición en un modelo de epitaxia coloidal. Revista de Ciencias, [S.l.], v. 21, n. 1, p. 37-52, abr. 2018. ISSN 2248-4000. Disponible en: <http://nexus.univalle.edu.co/index.php/revista_de_ciencias/article/view/6345>. Fecha de acceso: 15 ago. 2018 doi: https://doi.org/10.25100/rc.v21i1.6345.
Sección
Artículos de Investigación - Física